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学科科研
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2014-04
磁控与离子束辅助沉积系统
系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、Kaufman离子枪、四工位转靶、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
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2014-04
XP-2台阶仪
美国Ambios公司的表面轮廓仪(Surface Profilomer XP-2)可以对薄膜的厚度和残余应力进行测量，如图。
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2014-04
XJZ-6A型正置式反射金相显微镜
XJZ-6A型正置式反射金相显微镜属中型金相显微镜，采用了反射照明形式，使用者可在反射光照明下进行明场，暗场和偏光观察与摄影，并配有6cm×9cm幅面的摄影装置，另外还带135摄影附件。
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2014-04
离子镀膜机
本镀膜机型号为SA-6T，配备有6套电弧离化源、2套平面圆靶磁控溅射离化源、1套柱状靶磁控溅射离化源，极限真空度可达Pa，可用于多弧离子镀、平面靶和柱靶磁控溅射离子镀。
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